M1棟623室（居室） / M1-623 (Office)

• 
  デスクワーク環境
  Working office
• 
  ミーティング・懇談スペース
  Meeting space

M1棟622室（計測室） / M1-622 (Measurement room)

専用設備 / Own Equipment

• 
  マニュアルプローバ①
  Manual Prober 1
• 
  マニュアルプローバ②
  Manual Prober 2
• 
  赤外フォトルミネッセンス評価装置
  Infrared photoluminescence spectroscopy
• 
  ホール効果測定用真空プローバ
  Hall effect measurement system
• 
  走査型プローブ顕微鏡
  Scanning probe microscope

M1棟621室（計測室） / M1-621 (Measurement room)

専用設備 / Own Equipment

• 
  極低温フォトルミネッセンス評価装置
  Cryogenic photoluminescence spectroscopy

M1棟621室（クリーンルーム） / M1-621 (Clean room)

専用設備 / Own Equipment

• 
  6源スパッタ装置
  Six-target sputter deposition system
• 
  分光エリプソメトリ
  Spectroscopic ellipsometry
• 
  2源真空蒸着装置
  Two-source vacuum evaporator
• 
  真空急速加熱熱処理装置（MILA-5000UHV）
  Vacuum rapid anneal furnace (MILA-5000UHV)
• 
  急速加熱熱処理装置（MILA-5000）
  Rapid anneal furnace (MILA-5000)
• 
  急速加熱熱処理装置（MILA-3000）
  Rapid anneal furnace (MILA-3000)

M1棟518室（共用実験室） / M1-518 (Shared laboratory)

専用設備 / Own Equipment

• 
  分子線エピタキシー／ECRプラズマ複合装置
  Molecular beam epitaxy / ECR plama system

ウルトラクリーン実験施設（UCF）

専用設備 / Own Equipment

• 
  高密度プラズマ処理装置
  High-density plasma treatment system
• 
  原子層堆積装置
  Atomic layer deposition system
• 
  圧力勾配スパッタ装置
  Pressure-gradient sputter deposition system
• 
  誘導結合プラズマエッチング装置
  ICP-reactive ion etching system
• 
  液体ソースプラズマCVD装置
  Liquid-source plasma CVD
• 
  分子線エピタキシー
  Molecular beam epitaxy
• 
  エキシマ紫外光炉
  Excimer UV furnace
• 
  急速加熱熱処理装置（MILA-5050）
  Rapid anneal furnace (MILA-5050)
• 
  急速加熱熱処理装置（MILA-5000Z）
  Rapid anneal furnace (MILA-5000Z)
• 
  急速加熱熱処理装置（MILA-5000）
  Rapid anneal furnace (MILA-5000)
• 
  コンフォーカル顕微鏡
  Confocal microscope
• 
  触針式プロファイリングシステム
  Stylus Profiler
• 
  急速加熱熱処理装置
  Rapid thermal annealing furnace
• 
  プラズマリアクタ
  Asher
• 
  超高温熱処理炉
  Ultra-high temperature anneal furnace
• 
  3源スパッタ成膜装置
  Three-target sputter deposition system
• 
  スパッタ成膜装置
  Sputter deposition system
• 
  ベルジャー蒸着装置
  Bell-jar vacuum evaporator
• 
  光学顕微鏡
  Optical microscope
• 
  マスクアライナ
  Mask Aligner
• 
  レーザー描画装置
  Laser lithography system
• 
  3源真空蒸着装置
  Three-source vacuum evaporator
• 
  反応性イオンエッチング装置
  Reactive ion etching

共用設備 / Shared Equipment

• 
  ウェットベンチ
  Wet bench
• 
  走査型X線光電子分光分析装置
  Scanning X-ray photoelectron spectroscopy
• 
  高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
  Scanning electron microscope
• 
  集束イオンビーム加工観察装置
  Focused ion beam system