LABORATORY
M1棟623室（居室） / M1-623 (Office)
デスクワーク環境
Working office
ミーティング・懇談スペース
Meeting space
M1棟622室（計測室） / M1-622 (Measurement room)
専用設備 / Own Equipment
マニュアルプローバ①
Manual Prober 1
マニュアルプローバ②
Manual Prober 2
赤外フォトルミネッセンス評価装置
Infrared photoluminescence spectroscopy
走査型プローブ顕微鏡
Scanning probe microscope
ホール効果測定用真空プローバ
Hall effect measurement system
M1棟621室（計測室） / M1-621 (Measurement room)
専用設備 / Own Equipment
極低温フォトルミネッセンス評価装置
Cryogenic photoluminescence spectroscopy
M1棟621室（クリーンルーム） / M1-621 (Clean room)
専用設備 / Own Equipment
6源スパッタ装置
Six-target sputter deposition system
分光エリプソメトリ
Spectroscopic ellipsometry
簡易レーザーアニール装置
Laser anneal equipment
2源真空蒸着装置
Two-source vacuum evaporator
真空急速加熱熱処理装置（MILA-5000UHV）
Vacuum rapid anneal furnace (MILA-5000UHV)
急速加熱熱処理装置（MILA-5000）
Rapid anneal furnace (MILA-5000)
急速加熱熱処理装置（MILA-3000）
Rapid anneal furnace (MILA-3000)
熱処理炉
Anneal furnace
M1棟518室（共用実験室） / M1-518 (Shared laboratory)
専用設備 / Own Equipment
分子線エピタキシー／ECRプラズマ複合装置
Molecular beam epitaxy / ECR plama system
ウルトラクリーン実験施設（UCF）
専用設備 / Own Equipment
高密度プラズマ処理装置
High-density plasma treatment system
原子層堆積装置
Atomic layer deposition system
圧力勾配スパッタ装置
Pressure-gradient sputter deposition system
誘導結合プラズマエッチング装置
ICP-reactive ion etching system
液体ソースプラズマCVD装置
Liquid-source plasma CVD
分子線エピタキシー
Molecular beam epitaxy
エキシマ紫外光炉
Excimer UV furnace
急速加熱熱処理装置（MILA-5050）
Rapid anneal furnace (MILA-5050)
急速加熱熱処理装置（MILA-5000Z）
Rapid anneal furnace (MILA-5000Z)
急速加熱熱処理装置（MILA-5000）
Rapid anneal furnace (MILA-5000)
コンフォーカル顕微鏡
Confocal microscope
触針式プロファイリングシステム
Stylus Profiler
急速加熱熱処理装置
Rapid thermal annealing furnace
プラズマリアクタ
Asher
超高温熱処理炉
Ultra-high temperature anneal furnace
3源スパッタ成膜装置
Three-target sputter deposition system
スパッタ成膜装置
Sputter deposition system
ベルジャー蒸着装置
Bell-jar vacuum evaporator
光学顕微鏡
Optical microscope
マスクアライナ
Mask Aligner
レーザー描画装置
Laser lithography system
3源真空蒸着装置
Three-source vacuum evaporator
反応性イオンエッチング装置
Reactive ion etching
共用設備 / Shared Equipment
ウェットベンチ
Wet bench
走査型X線光電子分光分析装置
Scanning X-ray photoelectron spectroscopy
高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
Scanning electron microscope
集束イオンビーム加工観察装置
Focused ion beam system
U1W棟B113室 / U1W-B113
専用設備 / Own Equipment
分子線エピタキシー
Molecular beam epitaxy system
レーザーアニール装置
Laser anneal system