研究成果

研究業績受賞歴

年度:2022 | 2021 | 2020 | 2019 | 2018 | 2017 | 2016 | 2015 | 2014 | 2013 | 2012 | 2011 | 2010 | 2009 | 2008 | 2007 | 2006 | 2005 | 2004

2022年度研究成果

学術論文 / Journal Papers

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国際会議 / International Conferences

  1. Heiji Watanabe,
    "Gate stack technology for advanced wide bandgap power electronics" (plenary),
    The 3rd International Workshop on Materials Science and Advanced Electronics Created by Singularity (IWSingularity 2022) /The 2nd International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation (ISWGPDs 2022), F-P1, Jan.11,
    (Hybrid Conference, Nagoya, Japan and Online, January 11-13, 2022)

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国内学会 / Domestic Conferences

  1. 溝端 秀聡, 和田 悠平, 野﨑 幹人, 細井 卓治, 成田 哲生, 加地 徹, 志村 考功, 渡部 平司,
    "AlGaNキャップ層によるMgドープp-GaNの活性化抑制と水素脱離過程の制御による特性改善",
    電子デバイス界面テクノロジー研究会-材料・プロセス・デバイス特性の物理-(第27回研究会), pp. 173 - 176, Jan.28,
    (オンライン開催, January 28-29, 2022).
  2. 田淵 直人, 山口 凌雅, 近藤 雅斗, 國吉 望月, 細井 卓治, 小林 拓真, 志村 考功, 渡部 平司
    "光吸収層を有する石英基板上GeSn細線のレーザー溶融結晶化",
    電子デバイス界面テクノロジー研究会-材料・プロセス・デバイス特性の物理-(第27回研究会), pp. 17 - 22, Jan.28,
    (オンライン開催, January 28-29, 2022).
  3. 中沼 貴澄, 岩片 悠, 小林 拓真, 染谷 満, 岡本 光央, 吉越 章隆, 細井 卓治, 志村 考功, 渡部 平司
    "NO窒化処理を施した4H-SiC(11-20) MOSデバイスの絶縁性および閾値安定性の評価",
    電子デバイス界面テクノロジー研究会-材料・プロセス・デバイス特性の物理-(第27回研究会), pp. 75 - 80, Jan.29,
    (オンライン開催, January 28-29, 2022).
  4. 志村 考功, 細井 卓治, 小林 拓真, 渡部 平司,
    "局所液相成長法によって作製した単結晶GeSn細線の受光・発光特性"(招待講演),
    レーザー学会学術講演会第42回年次大会, S10-13p-VI-02, Jan.13,
    (オンライン開催, January 12-14, 2022)

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解説 / Reviews

  1. 志村 考功,
    "構造化X線光源による透過型X線イメージングの高感度化・高分解能化",
    検査技術, Vol. 27, No. 1, pp.49-55,
    (January, 2022).
      

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